
光学微电子行业净化工程无尘车间的特点文章概要:光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点A、无尘车间洁净度:LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间,其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车···
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光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点
A、无尘车间洁净度:
LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。
在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间,其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间,其洁净度一般为万级或十万级。
B、室内空气参数要求:
(1)温湿度要求:温度一般为24+2℃,相对湿度为55+5%。
(2)新风量大。由于这类车间内,人员比较多,可以根据以下数值应取下列的**大值:非单向流洁净室总送风量的10-30%;补偿室内排风和保持室内正压值所需的新鲜空气量;保障室内每人每小时的新鲜空气量≥40m3/h。
(3)送风量大。为了满足洁净室内的洁净度及热湿平衡,需要较大的送风量,就300平方米的车间,吊顶高度为2.5米的,如果是万级,送风量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送风量(换气次数,是≥25次/h);如果是十万级,送风量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送风量(换气次数,是≥15次/h)。
光学微电子行业净化工程设计方案分析
对于常规电子厂房洁净室空调的设计,应根据电子厂房的生产工艺要求及甲方的经济条件来选用哪种空调设计方案,以满足生产工艺的要求作为前提。根据以往经验,对于要求高的可以选用组合式空气处理机组集中处理的空调方案;对于要求不高的,又要初投资低的,可以选用柜机+FFU。,具体的方案选择根据具体情况而定。
净化工程中空气净化处理方案折叠
●净化工程中各级空气洁净度的空气净化处理,均应采用初效、中效、空气过滤器三级过滤。100000级空气净化处理,可采用亚空气过滤器代空气过滤器。
●空气过滤器的选用布置和安装方式,应符合:初效空气过滤器不应选用浸油式过滤器;中效空气过滤器宜集中设置在净化空气调节系统的正压段;空气过滤器或亚空气过滤器宜设置在净化空气调节系统末端,空气过滤的安装方式应简便可靠,宜检漏和更换;中效、亚、空气过滤器宜按额定风量选用;阻力、效率相近的空气过滤器宜设置在同化车间内。
●确定集中或分散式净化空气调节系统时,应综合考虑生产工艺的特点和净化车间空气的洁净度等级、面积、位置等因素。凡生产工艺连续、无尘室或净化车间面积较大时,位置集中以及噪声控制和振动控制要求严格的洁净室,宜采用集中式净化空气调节系统。
●净化空气调节系统如需电加热时,应选用管状电加热器,位置应布置在空气过滤器的上风侧,并应有防火安全措施。
●送风机可按净化空气调节系统的总送风量和总阻力值进行选择,中效、空气过滤器的阻力宜按其初阻力的两倍计算。
●净化工程化空气调节系统除直流式系统和设置值班风机的系统外,应采取防止室外污染空气通过新风口参入净化车间内的防灌倒措施。
●净化空气调节系统设计应合理利用回风,凡工艺过程产生大量有害物质且局部处理不能满足卫生要求,或对其他工序有危害时,则不应用回风。